[고시위크=김민주] 정부 출연 연구기관들이 반도체 소재부품 관련 기술에 대해 국내 특허에만 치중하고 있는 것으로 나타났다. 특히 수출 규제 품목인 폴리이미드의 경우 100여 건이 넘는 국낸 특허 등록에도 불구하고 일본에서는 단 한 건도 없는 것으로 드러났다.
대한변리사회는 9월 27일 ‘소재부품 기반 기술 국산화를 위한 원천특허 대책 특별위원회(위원장 전광출, 이하 대책위)’ 활동 경과를 발표했다.
대책위에 따르면 일본의 수출 규제 품목인 반도체 소재·부품 관련 3개 품목에 대한 한일 간 특허 분석 결과 특허의 양적·질적 부문에서 일본에 크게 뒤지고 있는 것으로 나타났다.
불화 폴리이미드의 경우 자국 출원 대비 해외 출원 비율이 한국은 40%에 그친 반면 일본은 53%로 집계됐다. 해외 출원 국가 수 역시 한국은 2.4개국인 반면 일본은 3.6개국으로 조사됐다.
또 한국화학연구원(38건), 카이스트(12건), 연세대 산학연(11건) 등 국내 출연연 등이 보유한 불화 폴리이미드 관련 특허 112건 중 일본에 등록된 기술은 단 한 건도 없는 것으로 조사됐다.
대책위는 “국내에만 특허를 출원하는 것은 해당 기술 수준이 높지 않거나 해외 출원에 대한 인식이 부족한 것”이라며 “아직까지 일부 출연연의 경우 뚜렷한 특허 전략없이 허울뿐인 특허를 양산하고 있는 실정”이라고 지적했다.
조우제 대책위 소위원장은 “일반적으로 기업들은 기술이 우수하거나 해외 시장을 목표로 하는 경우 해외 출원을 한다”라며 “일본이 우리에 비해 해외 출원이 더 많다는 것은 일본이 우수한 기술을 더 많이 갖고 있거나 기술을 특허로 보호하려는 의지가 더 강하다는 것을 의미한다”라고 설명했다.
반도체 기판 제작에 주요 사용되는 포토레지스트의 경우도 상황이 다르지 않았다. 대책위에 따르면 국내 등록 특허의 64%를 일본이 차지한 반면, 한국은 27%에 불과한 것으로 집계됐다. 일본 내 특허 역시 일본이 85%로 가장 큰 비중을 차지하고 있으며, 한국은 3.7%에 그쳤다. 상대 국가에 출원한 비율을 따져보면 일본이 무려 17배가 더 높은 것으로 나타났다.
다만, 포토레지스트 분야에서 최고 기술 수준이라 할 수 있는 극자외선(EUV) 포토레지스트 관련 특허는 한·일 양국 모두 출원이 저조한 것으로 조사됐다.
반도체 공정에서 회로에 패턴을 형성하는 식각(Etching)공정에 주로 사용되는 불화수소도 일본의 강세가 두드러졌다. 불화수소 관련 특허의 절반을 일본(46%)이 보유하고 있으며 이어 미국(25%), 한국(8%) 순이었다. 실제 세계 시장에서 일본의 점유율은 70% 이상이며, 한국에서는 95% 이상 일본산 고순도 불화수소를 수입하고 있는 실정이다. 다만 불화수소의 제조방법이나 정제방법에 대한 특허들은 이미 존속기간이 만료된 경우가 많은 것으로 분석되었다. 하지만 고순도 불화수소를 이용하는 반도체 제조방법에 대한 특허들은 다수 발견되므로 주의가 요망된다는 견해를 대책위는 밝혔다. 대책위는 불화수소 관련 연구개발을 통한 기술 자립과 동시에 단기적인 전략으로 미국 기업과의 적극적인 라이선스 등을 통해 기술 수준을 높일 필요성이 있다고 진단했다.
전광출 위원장은 “주요 소재부품의 한·일 특허를 분석한 결과 양적인 수준은 물론 해외 특허의 비중 등 질적 수준을 나타내는 지표에서도 한국이 열세에 놓여 있다”며, “특히 민간에서 투자하기 어려운 최첨단 기술 분야에서 IP-R&D를 통한 적극적인 연구개발과 특허 경쟁력 제고 노력이 필요하다”고 강조했다. 이와 함께 정부 출연연과 대학 등 공공기관의 해외 특허 권리화에도 보다 적극적인 노력이 필요하다는 지적이다.
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